绍兴铝氧化处理_绍兴铝氧化磷酸批发

绍兴氧化磷酸批发财经讯2024年1月27日，根据国家知识产权局公告，绍兴中芯集成电路制造有限公司申请的项目名称为“SiC、栅极上氧化层的制备方法”氧化物结构及器件”，公开号CN117457479A，申请日为2023年11月。专利摘要显示，本申请实施例涉及一种SiC上氧化物层的制备方法、栅极氧化物结构及器件。还有哪些？

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绍兴氧磷酸铝厂家财经讯2024年2月7日，根据国家知识产权局公告，绍兴中芯集成电路制造有限公司申请的项目名为“一种SGT器件及其制造方法，背面将介绍一种电子设备”。在半导体衬底的顶面和沟槽的内表面上形成氧化层，并在沟槽内形成栅极多晶硅层。沉积金属层，金属层覆盖氧化物层和栅极多晶硅层；退火工作将在后面介绍。