铝氧化前用什么清洗干净

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本发明公开了一种半导体氧化硅深孔的蚀刻清洗剂，包括以下组分：0.5%～5%的氟化氢、6%～20%的氟化铵、30%～60%的与水互溶的极性有机溶剂、5%～20%的铝离子络合剂、0.3%～10%的铝保护剂、10%～35%的水以及10～10000ppm的表面活性剂。该半导体氧化硅深孔的蚀刻还有呢？

杭州老板电器股份有限公司申请一项名为“一种厨房重油污清洗剂及其制备方法和应用“公开号CN117778106A,申请日期为2023年11月。专利摘要显示，本发明涉及一种厨房重油污清洗剂，包括磷酸三钠、三聚磷酸钠、碳酸钠、偏硅酸钠、表面活性剂、氢氧化钠、消泡剂和油污抓爬剂后面会介绍。

作者：科技女神经真的发现了宝藏！再也不用总往门店跑去清洁首饰了，眼镜首饰分分钟焕然一新，超声波清洗机真的是家用清洗神器查看文章精彩评论，请前往什么值得买进行阅读互动